4단 동축 리본 라인 소스
4개의 Line Source Driver 211을 수직으로 배열해 중·고역의 직접음 비중과 음상 형성에 초점을 맞춘 구조이다.
Master Line Source 2 Gen2는 대형 라인 소스 설계를 2타워 구조로 구현한 3웨이 다이폴 스피커이다. 수직으로 쌓은 4개의 Line Source Driver 211이 중·고역을 맡고, 전면의 8.7인치 UHQD 알루미늄 콘 우퍼 2개와 후면 UHQD 패시브 라디에이터 2개가 저역을 담당한다.
1세대 Master Line Source 2의 기본적인 라인 소스·다이폴 개념은 유지하면서, Gen2에서는 10mm 알루미늄 배플과 매트릭스 보강 캐비닛, 형상과 두께를 변경한 후면 디퓨저를 적용했다. 후면 디퓨저는 개방형 중·고역 방사음을 분산시키며, 후면에 배치된 패시브 라디에이터는 깊은 저역 확장을 맡는다.
4개의 Line Source Driver 211을 수직으로 배열해 중·고역의 직접음 비중과 음상 형성에 초점을 맞춘 구조이다.
개방형 중·고역 패널 뒤에 배치한 디퓨저가 후면 방사음을 분산시킨다. Gen2에서는 디퓨저 형상과 캐비닛 강성을 새로 다듬었다.
전면의 2개 우퍼와 후면의 2개 패시브 라디에이터가 깊은 저역과 큰 다이내믹 재생을 담당한다.
후면 토글 스위치로 중·고역 레벨을 조정해 청취 공간과 시스템에 맞춘 세팅이 가능하다.
35–60㎡ (약 10.6–18.2평)
높이 168cm의 대형 다이폴 스피커이므로 좌우·후방 반사음을 다룰 수 있는 중대형 전용 청취 공간에 적합하다.
약 3.0–5.0m
4단 라인 소스가 하나의 음원으로 결합되는 거리와 좌우 무대의 스케일을 고려해 충분한 청취 거리를 확보한다.
약 2.5–4.0m
대형 스케일과 좌우 무대 폭을 확보할 수 있는 간격을 우선하며, 청취 거리와 함께 정삼각형에 가깝게 조정한다.
약 0.5–1.5m
후면 디퓨저가 근접 배치를 돕지만, 다이폴 방사 특성을 살리려면 후벽과의 거리를 조정하며 저역과 공간감을 확인한다.
최소 약 0.8m
측벽 초기 반사를 줄일 수 있도록 여유를 두고, 좌우 벽과의 거리는 가능한 한 대칭으로 맞춘다.
약 5–15°
초기에는 약한 토인으로 시작한 뒤 중앙 음상과 고역 에너지를 기준으로 미세 조정하는 방식이 적합하다.
낮음
스피커의 높이와 저역 규모, 다이폴 중·고역 방사 특성상 작은 공간보다 충분한 배치 여유가 있는 공간에 적합하다.
높음
후벽 거리, 좌우 대칭, 좌석 높이, 토인과 중·고역 레벨 조정을 함께 다뤄야 하므로 세심한 세팅이 필요하다.
보통
2개의 대구경 우퍼와 2개의 패시브 라디에이터를 사용하므로 작은 공간이나 벽면 근접 배치에서는 저역을 점검해야 한다.
대형 편성과 큰 음량에서 스케일과 다이내믹을 여유 있게 드러내는 성향이다. 저역은 깊이와 양감을 갖추면서도 타격의 윤곽을 유지하며, 복잡한 오케스트라 편성에서도 악기 위치와 무대의 골격이 비교적 또렷하게 정리된다. 동축 리본 라인 소스는 중·고역의 투명도와 미세한 정보량, 넓고 깊은 공간 표현을 강점으로 한다. 고역은 개방적이지만 과도하게 거칠게 치우치지 않고, 중저역에는 약간의 온기와 밀도를 더해 장시간 청취에서도 균형을 유지하는 편이다.